[전자-9] Ta2O5 based RRAM with O2 Plasma Treatment (Time Variation)
- 김도연
- 인천대학교
- 작품구분일반형
- 공개여부공개
- 카테고리전자
- 등록일2020-09-18
- 팀원(공동개발자)김민태
- 출품 경진대회2020 공과대학 EATED 프로그램 연구성과 중간 발표회
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상세설명
1. 수행배경
- 최근 CPU속도가 빨라지면서 RAM이 CPU속도를 따라가지 못하면서 시스템에 저하가 일어나고있다.연산속도가 빠르면서 비휘발성 특성과 높은 메모리 집적도를 갖춘 RAM을 찾으려 다양한 연구가 지속되고있다.
2. 수행기간
- 2020.04~
3. 개발작품 설명
- O2 plasma treatment로 인해 Resistive switching 특성 개선
4. 활용방안
- 차세대 비휘발성 반도체에 적합하기 위한 연구
소개 영상
소개 슬라이드
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